电子气体、气体供给体系分类简析及流量和压力操控产品

  气体是电子工业的“血液，尤其在半导体、光伏、光纤、显示器等职业中是关键性资料。例如，在集成电路制作中气体的占比仅次于硅片，占晶圆制作本钱的13%。首要运用在于薄膜、刻蚀、掺杂、气相堆积、分散等工艺。

  电子工业触及的气体品种繁多，用处形形色色，它的分类办法亦较为杂乱。简略的按气体特性区别，则一般可将电子气体及其气体供给体系可分为大宗气体供给和特种气体供给，前者为运用量较大的气体，如N2，CDA (枯燥压缩空气)等，后者为运用量比较小的气体，如高纯 SiH4、PH3、AsH3、B2H6、N2O、NH3、SF6、NF3、CF4、BCI3、BF3、HCI、CI2 等。

  ① 氮气大多数都用在设备吹扫、稀释质料气，供给惰性气体环境和化学品运送压力来历；

  ②气体纯化站最重要的包括大宗气体纯化设备、气体过滤器、运送管道和辅佐设备等。

  源于制气站的大宗气体经过气体纯化设备、颗粒物过滤器后生成高纯度的大宗气体供厂房内设备运用。

  特种气体是电子工业制作中重要的原资料，大多数都用在氧化、掺杂、气相堆积、扩微等工艺。按气体性质大体上分为不燃性气体、毒性气体、易燃性气体、腐蚀性气体，并别离放置于不同的化学品站内。

  在电子工业生产制作环节中，关于上述气体的流量及压力操控的精确度和安稳才能等功能要求很高，以往大部分运用进口品牌的设备和气体质量流量操控器MFC及压力操控器PC，尤其是半导体职业。

  近几年，因为受到限制要素影响，国产的设备商或生产商现已在逐渐考虑国产品牌质量流量操控器及压力操控器的代替，尤其是关于上述大宗气体供给体系。

  我司的气体质量流量操控器MFC、压力操控器PC，以及液体质量流量操控器现已逐渐参加到分散/退火、离子注入、刻蚀、气相堆积等大部分工艺中。有部分产品已出口到国外的电子工业相关的企业。